化工去離子水設(shè)備
簡(jiǎn)要描述:化工行業(yè)中溶劑用水、化學(xué)分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)的分離、濃縮、提純,廢物回收等場(chǎng)合都需要用到水質(zhì)20μs/cm~0.1μs/cm的純水或更高水質(zhì)的化工去離子水設(shè)備
- 產(chǎn)品型號(hào):ZSQF2000L
- 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間:2023-03-03
- 訪 問(wèn) 量:1975
產(chǎn)品概述
一、概述
化工行業(yè)中溶劑用水、化學(xué)分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)的分離、濃縮、提純,廢物回收等場(chǎng)合都需要用到水質(zhì)20μs/cm~0.1μs/cm的純水或更高水質(zhì)的超純水?;ば袠I(yè)對(duì)純水、超純水需求場(chǎng)合很多,各應(yīng)用場(chǎng)合對(duì)水質(zhì)、水量需求不盡相同,這也導(dǎo)致設(shè)備配置差異很大,軟水、反滲透純水、離子交換純水、離子交換超純水、EDI電去離子超純水等,幾乎涵蓋所有純水、超純水工藝設(shè)備,在化工行業(yè)都用應(yīng)用,客戶在購(gòu)買設(shè)備前務(wù)必確認(rèn)怎樣品質(zhì)的水能夠滿足您的使用需求。
二、化工去離子水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域
• 化工材料的生產(chǎn)和加工過(guò)程所用的溶劑及清洗過(guò)程;
• 超純材料和超純化學(xué)試劑;
• 電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材料;
• 電池(蓄電池)制造過(guò)程工藝純水;
• 光學(xué)鏡片的超聲波清洗;
• 石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純;
• 實(shí)驗(yàn)室和中試車間;
• 高純墨水、打印機(jī)中的噴墨、納米墨水。
三、化工去離子水設(shè)備工藝流程
1、一級(jí)反滲透+混床(出水2---15mΩ.cm)
原水箱—原水泵—多介質(zhì)過(guò)濾器—活性炭過(guò)濾器—軟水器→保安過(guò)濾器→高壓泵—反滲透主機(jī)→純水箱—純水泵→陰陽(yáng)離子交換混床→微孔過(guò)濾器—儲(chǔ)水罐→純水輸送泵→用水點(diǎn)
2、一級(jí)反滲透+EDI系統(tǒng)(出水5---15mΩ.cm)
原水箱---原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→保安過(guò)濾器→高壓泵---反滲透主機(jī)→純水箱—EDI系統(tǒng)→儲(chǔ)水罐→純水輸送泵→用水點(diǎn)
3、二級(jí)反滲透+EDI系統(tǒng)(出水18mΩ.cm)
原水箱—原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→保安過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵—一級(jí)反滲透主機(jī)→PH調(diào)節(jié)—二級(jí)級(jí)高壓泵—二級(jí)反滲透—純水箱—脫氣裝置—微孔過(guò)濾器→EDI系統(tǒng)→拋光混床系統(tǒng)—儲(chǔ)水罐→純水輸送泵→用水點(diǎn)
四、出水標(biāo)準(zhǔn)
符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)、符合《中國(guó)電子行業(yè)超純水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)》GB/T1146.1-1997
(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)
五、訂貨須知
具體的設(shè)備處理量、出水標(biāo)準(zhǔn)、設(shè)備材質(zhì)、尺寸及電器控制等,我公司將會(huì)提供給您詳細(xì)的方案說(shuō)明。
溫馨提示:水處理設(shè)備的要求需要了解幾點(diǎn)內(nèi)容:
1、純水的產(chǎn)水量(按每小時(shí)計(jì)算)
2、純水要求的水質(zhì)(例如多少兆歐)
3、原水進(jìn)水水質(zhì)是什么水(例如自來(lái)水,地表水,深井水)
4、制作純水的工藝(工藝不一樣價(jià)格也不一樣)
5、用于生產(chǎn)什么產(chǎn)品(例如電池片,蓄電池,玻璃行業(yè),化妝品行業(yè),化工行業(yè)等)
6、配置的品牌及控制方式(PLC自動(dòng)控制,手動(dòng)控制)型號(hào)和數(shù)量等。
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